荷兰制造商ASML突破禁令，推出专为中国定制的特别版光刻机

7月6日消息，据了解，荷兰半导体设备制造商ASML近日被报道试图绕过荷兰的新销售许可禁令，计划推出一款专为中国市场设计的特别版DUV光刻机。该消息称，如果这一计划得以继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业将能够继续使用荷兰生产的设备来生产28纳米及更成熟工艺的芯片。

据了解，这款特别版DUV光刻机是基于ASML的Twinscan NXT: 1980Di光刻系统进行改造的。而Twinscan NXT: 1980Di光刻系统是ASML在10年前推出的一款旧型号，因此不在此次荷兰官方禁令的限制范围内。

Twinscan NXT: 1980Di光刻系统是ASML目前效率相对较低的光刻机型之一，它支持NA 1.35光学器件，分辨率可达到小于38纳米，理论上可以应用于7纳米工艺的生产。目前大多数晶圆厂使用1980Di光刻机主要生产14纳米及更高工艺的芯片，而很少使用它来生产7纳米芯片。

ASML的此次行动被视为一种规避荷兰新销售许可禁令的尝试，旨在满足中国市场对高端半导体设备的需求。这也反映了中国半导体行业对先进工艺技术和设备的迫切需求，尤其是在产能紧张和国内芯片自给自足战略的背景下。

尽管ASML的特别版DUV光刻机基于旧型号改造，但其推出仍可能引起一定的关注和争议。荷兰政府此前对向中国出口先进半导体制造设备实施了一些限制，这一举措被视为对华为等中国科技巨头的制裁措施之一。然而，ASML通过此次推出特别版光刻机，似乎试图通过间接方式满足中国市场的需求，以维持与中国半导体企业的合作关系。